微波等离子化学气相沉积（MPCVD）系统
 | 微波等离子化学气相沉积（MPCVD）系统 —— B型 一款功能强大的微波等离子体化学气相沉积装置，多种功能方便用户沉积工艺的研发和优化。
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性能特点：
֍采用特殊材质反应腔，能耐高温 ֍高品质单晶金刚石、多晶金刚石的批量生长 ֍使用高精度气体流量计，高稳定性 ֍采用纯净的石英窗 ֍设备安全性高、可靠性强、重现性好 ֍方便工艺人员沉积工艺的研发和优化 |
主要技术参数：
| 微波功率 | 0.6kW － 6kW 连续可调 2.45 GHz |
| 反应腔 | 圆柱形反应腔 |
| 真空漏率 | ≤5×10-10Pa·m3/s |
| 气体质量流量控制 | 标配5路，可定制 |
| 工作气压 | 1kPa - 30kPa |
| 基板台类型 | 水冷式基板台 |
| 标准衬底托 | 最大支持60mm直径圆台面积稳定沉积 |
| 样品台 | 多层升降 |
| 操作系统 | PLC控制系统 |
| 样品台升降功能 | 有，可选 |
| 样平台旋转功能 | 有 |
| 旋转模式 | 连续旋转、间歇旋转 |
| 旋转角度 | 360° |
| 旋转速度 | 0-20转/分，可调节 |